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低溫等離子式廢氣凈化器主要采用輝光放電、微波放電、電暈放電等方法產(chǎn)生高濃度離子。放電的強度與工作室氣壓比較值較高。通常輝光放電中氣體壓強遠(yuǎn)低于大氣壓（約10-8—10-4標(biāo)準(zhǔn)大氣壓〉，因而氣體粒子數(shù) 密度低，粒子間碰撞耦合弱，電子在外電場加速作用下獲取的能量不能及時傳遞給重粒子。

光催化氧化廢氣凈化設(shè)備（一重破壞、分解，三重催化氧化）：破壞–1、采用UV電磁輻射和穿透力、微波催化燃燒功能對廢氣進行微波輻射和破壞，使所有有機物廢氣的分子鏈打斷，裂解、改變物質(zhì)結(jié)構(gòu)，將高分子污染物質(zhì)，裂解、分解成為低分子無害物質(zhì)，如水和二氧化碳等。

噴涂廢氣光氧催化處理（一重破壞、分解，三重催化氧化）：破壞–1、采用*UV電磁輻射和穿透力、微波催化燃燒功能對廢氣進行微波輻射和破壞，使所有有機物廢氣的分子鏈*打斷，裂解、改變物質(zhì)結(jié)構(gòu)，將高分子污染物質(zhì)，裂解、分解成為低分子無害物質(zhì)，如水和二氧化碳等。2、采用高能C波段（僅次于切割不銹鋼的激光，強于氬弧焊光源的數(shù)十倍強度）在設(shè)備內(nèi)，強裂解惡臭物質(zhì)分子鏈，改變物質(zhì)結(jié)構(gòu)，將高分子污染物質(zhì)，

低溫等離子廢氣凈化設(shè)備主要采用輝光放電、微波放電、電暈放電等方法產(chǎn)生高濃度離子。放電的強度與工作室氣壓比較值較高。通常輝光放電中氣體壓強遠(yuǎn)低于大氣壓（約10-8—10-4標(biāo)準(zhǔn)大氣壓〉，因而氣體粒子數(shù) 密度低，粒子間碰撞耦合弱，電子在外電場加速作用下獲取的能量不能及時傳遞給重粒子。

化工廢氣光氧催化處理（一重破壞、分解，三重催化氧化）：破壞–1、采用*UV電磁輻射和穿透力、微波催化燃燒功能對廢氣進行微波輻射和破壞，使所有有機物廢氣的分子鏈*打斷，裂解、改變物質(zhì)結(jié)構(gòu)，將高分子污染物質(zhì)，裂解、分解成為低分子無害物質(zhì)，如水和二氧化碳等。2、采用高能C波段（僅次于切割不銹鋼的激光，強于氬弧焊光源的數(shù)十倍強度）在設(shè)備內(nèi)，強裂解惡臭物質(zhì)分子鏈，改變物質(zhì)結(jié)構(gòu)，將高分子污染物質(zhì)，

低溫等離子廢氣凈化設(shè)備特點?采用高﹑低壓集塵板分離的人性化設(shè)計 ?之*放電設(shè)計，提升離子化的效率 ?更多的收集面積，且安裝體積小 ?新一代固態(tài)高壓產(chǎn)生器

光氧廢氣處理裝置（一重破壞、分解，三重催化氧化）：破壞–1、采用*UV電磁輻射和穿透力、微波催化燃燒功能對廢氣進行微波輻射和破壞，使所有有機物廢氣的分子鏈*打斷，裂解、改變物質(zhì)結(jié)構(gòu)，將高分子污染物質(zhì)，裂解、分解成為低分子無害物質(zhì)，如水和二氧化碳等。2、采用高能C波段（僅次于切割不銹鋼的激光，強于氬弧焊光源的數(shù)十倍強度）在設(shè)備內(nèi)，強裂解惡臭物質(zhì)分子鏈，改變物質(zhì)結(jié)構(gòu)，將高分子污染物質(zhì)，